ASML, 1분기 영업이익 전년동기비 225% 상승 : TSMC, 삼성전자, 하이닉스, 인텔 투자 확대 수혜 / 어닝서프라이즈 / EUV 수요 확대

 

안녕하세요. 이노알파 입니다.

 

네덜란드 ASML이 호성적을 달성하며 어닝서프라이즈를 기록했습니다. 반도체 업황이 좋아지면서 고객사의 설비투자가 늘어나 EUV 수요가 확대된 덕분인데요. ASML은 1분기 매출액 43억6400만유로(약 5조8700억원), 영업이익 13억3100만유로(약 1조7900억원)를 기록했다고 공시했는데요. 각각 전년동기대비 83.3%, 225.0% 상승한 수치입니다.

 

피터 베닝크 ASML CEO는 올해 1분기는 지난 실적 발표에서 제시한 전망치를 웃돌았다며 “모든 반도체 분야에서 ASML 제품과 서비스에 대한 수요가 강해졌고 설명했습니다. 이번 ASML 실적에서 눈에 띄는 점은 한국과 대만 비중이 늘어난 부분인데요. 두 나라에서 70% 내외 매출이 발생했는데 지난 1분기에는 87%로 더 늘어났습니다. 삼성전자와 TSMC의 장비 구매가 증가했다는 의미입니다.

양사는 반도체 수탁생산(파운드리) 라인에서 활용할 극자외선(EUV) 장비 쟁탈전을 벌이고 있는데요. 해당 제품은 ASML가 독점하고 있습니다. EUV는 7나노미터(nm) 이하 선단 공정에서는 쓰이는 차세대 노광 기술로 최근 D램 제조 공정에도 도입되며 수요가 더 늘어나고 있습니다.

 

EUV 장비는 1대당 2000억 내외로 고가지만 그만큼 만들기도 어려워 제작 기간은 평균 24주 이상이 걸렵니다. 이에 ASML은 지난해 31대를 판매했는데요. 매년 관련 공장 증설 및 생산주기 단축에 나서고 있지만 물량 대폭 확대는 쉽지 않습니다. 올해는 40여대가 공급될 예정입니다.

불화아르곤(ArF) 노광 장비 매출도 견조한데요. ArF는 EUV보다 한 단계 아래 기술로 현재 가장 보편화된 파장으로 주요 고객사에서 EUV 장비와 함께 다른 제품까지 같이 구매하고 있습니다.

EUV용 펠리클에 대해서도 언급했는데요. ASML은 펠리클 투과율은 90%로 향상해 고객의 생산효율을 높였다고 밝혔는데요. 펠리클은 포토마스크의 오염 방지 및 수명 연장을 위해 씌우는 박막으로 EUV는 기존 불화아르곤(ArF) 등과 달리 광원을 반사하는 방식이어서 업계에서는 요구하는 투과율은 88% 이상으로 더 높은 투과율의 펠리클이 필요합니다. 그동안 EUV용 펠리클이 없어서 삼성전자 TSMC 등은 수억 원에 달하는 EUV용 포토마스크를 몇 번 사용하지 못하고 폐기해야 했는데요. 전용 펠리클 개발로 포토마스크를 수차례 더 쓸 수 있게 개선되었습니다.

한편 ASML은 올해 전체 매출이 작년 대비 30% 이상 증가할 것으로 예상했는데요. 전 세계적인 반도체 부족으로 TSMC, 삼성전자, 인텔, 하이닉스 등 주요 반도체 회사들이 공격적으로 투자를 확대하고 있기 때문입니다. 반도체 기업들이 투자를 늘릴 수록 ASML도 수혜를 입을 전망입니다.

 

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